Технологические процессы и реакторы плазмохимического травления микроструктур элементов СБИС

Гомжин Иван Васильевич. Технологические процессы и реакторы плазмохимического травления микроструктур элементов СБИС : Дис. ... канд. техн. наук : 05.27.01 : Воронеж, 2003 208 c. РГБ ОД, 61:04-5/1609
Автор
Гомжин Иван Васильевич
Год
2003

  • 99 000 UZS

Рекомендуем вам товары

Разработка методов проектирования элементов МОЭМС, изготавливаемых по технологии поверхностной микрообработки
99 000 UZS
Автор
Лысенко Игорь Евгеньевич
Количество страниц
Год
2002
Неравновесная населенность мелких примесных состояний в полупроводниках и усиление излучения длинноволнового инфракрасного диапазона
99 000 UZS
Автор
Орлова Екатерина Евгеньевна
Количество страниц
Год
2002
Многослойные структуры на эффекте сильного поля в сегнетоэлектрических пленках
99 000 UZS
Автор
Прудан Александр Михайлович
Количество страниц
Год
2002
Отжиг электростатических дефектов полупроводниковых биполярных изделий
99 000 UZS
Автор
Литвиненко Дарья Александровна
Количество страниц
Год
2003
Конструирование ПЗС-структур с повышенной фоточувствительностью на основе объемного моделирования распределений потенциала и заряда
99 000 UZS
Автор
Пугачев Андрей Алексеевич
Количество страниц
Год
2002
Новостной блок
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3