Технология осаждения пленок оксида вольфрама методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе

Морозова Александра Александровна. Технология осаждения пленок оксида вольфрама методом реактивного магнетронного распыления на постоянном токе: диссертация ... кандидата технических наук: 05.27.06 / Морозова Александра Александровна;[Место защиты: Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В.И. Ульянова (Ленина)].- Санкт-Петербург, 2015.- 126 с.
Автор
Морозова Александра Александровна
Год
2015
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации
Введение
ГЛАВА 1. Технология, свойства и применение пленок оксида вольфрама 13
1.1 Технология осаждения пленок 13
1.1.1 Химический синтез 13
1.1.2 Термическое испарение 14
1.1.3 Физическое распыление 15
1.2 Химический состав 17
1.3 Кристаллическая структура 17
1.4 Дополнительная термообработка 19
1.5 Твердые растворы и гетероструктуры 21
1.6 Хромогенные свойства 22
1.6.1 Электрохромизм 22
1.6.2 Другие хромогенные свойства 23
1.7. Области применения 25
Выводы по главе 1 26
ГЛАВА 2. Исследование реактивного магнетронного распыления 29
2.1 Технологическое оборудование 29
2.2 Основные особенности распыления металлической мишени в реактивной газовой среде 31
2.3 Распыления вольфрамовой мишени в разных газовых средах 33
2.3.1. Аргон 33
2.3.2. Кислород 35
2.3.3. Смесь аргона и кислорода 36
2.3.4. ВАХ магнетрона 38
2.4 Устойчивость стационарного состояния вольфрамовой мишени 40
Выводы по главе 2 44
ГЛАВА 3 Исследование технологии пленок 46
3.1. Методы исследования 46
3.2 Влияние технологических параметров на свойства пленок 49
3.2.1. Состав среды 50
3.2.2. Плотность тока разряда 52
3.2.3. Расстояние мишень-подложка 53
3.2.4. Скорость роста 54
3.2.5. Дисперсия оптических констант 55
3.3 Химический состав и кристаллическая структура 57
3.4 Дополнительная термообработка в воздушной среде 59
3.5 Рекомендации по разработке технологии осаждения пленок 62
Выводы по главе 3 63
ГЛАВА 4 Исследование хромогенных свойств 65
4.1 Электрохромизм 65
4.1.1 Экспериментальный стенд 65
4.1.2 Пленка на прозрачной подложке 66
4.1.3 Пленка на непрозрачной подложке 71
4.2 Термохромизм 75
4.2.1 Изотермический отжиг при 500 С и 700 С 76
4.2.2 Последовательный изотермический отжиг от 500 С до 750 С 79
4.2.3 Последовательный отжиг в разных средах 82
Выводы по главе 4 85
ГЛАВА 5 Рекомендации по оборудованию научно производственного комплекса оксидной электроники 87
5.1 Устройства оксидной электроники 87
5.1.1 Электрохромные устройства 87
5.1.2 Газовые сенсоры 88
5.1.3 Солнечные элементы 90
5.2 Основной элемент комплекса для изготовления пленочных структур 90
5.3 Научно-производственный комплекс 92
5.3.1 Состав научно-производственного комплекса 92
5.3.2 Базовые концепции типовых участков 94
5.3.3 Требования к технологической среде научно-производственного комплекса 96
Выводы по главе 5 99
Заключение 101
Приложение 102
П.1 Определение оптических констант пленок по спектральному коэффициенту пропускания 102
П.1.1 Основные теоретические положения 102
П.1.2 Методика определения дисперсии оптических констант и толщины пленки по экспериментальному спектру пропускания 104
П.2 Определение ширины энергетической щели пленок 110
П.2.1 Собственное поглощение при прямых переходах 110
П.2.2 Собственное поглощение при непрямых переходах 111
П.2.3 Вычисление ширины щели 112
Литература

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Николаевский, Анатолий Владимирович
Количество страниц
Год
2012
99 000 UZS
Автор
Максимов, Александр Дмитриевич
Количество страниц
Год
2012
99 000 UZS
Автор
Зараменских, Ксения Сергеевна
Количество страниц
Год
2011
99 000 UZS
Автор
Моисеев, Константин Михайлович
Количество страниц
Год
2012
99 000 UZS
Автор
Нгуен Хонг Виет
Количество страниц
Год
2015
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3