Введение
Глава I. Обзор используемой литературы и проблематика работы
1.1. Типовые конструкции солнечных элементов и их эффективность
1.2. Физические основы работы солнечных фотопреобразователей
1.3. Технологические методы получения солнечных фотопреобразователей
1.4. Постановка задачи исследования
1.5. Выводы
Глава II. Моделирование процесса осаждения и расчет основных параметров ионно-лучевой установки
2.1. Методика распыления вещества в плазме
2.2. Источник ионов Ошибка! Закладка не определена .
2.3. Система формирования и управления ионным пучком
2.3.1. Система экстракции
2.3.2. Система фокусировки
2.3.3. Система сканирования
2.4. Нанесение покрытия управляемым ионным пучком
2.5. Вывод
Глава III. Особенности вакуумной системы для ионного осаждения
3.1. Вакуумные параметры системы
3.2. Система откачки вакуумной арматуры установки
3.3. Система управления вакуумными насосами
3.4.. Выводы
Глава IV. Расчетные и экспериментальные параметры тонкопленочных Si-x солнечных элементов
4.1. Физические принципы осаждения тонких пленок
4.2. Математическая модель расчета физико-механических свойств покрытий и экспериментальные данные образцов ионно-лучевого осаждения
4.3. Расчетные и экспериментальные данные получения омических контактов, полупроводниковых слоев и металлической гребенки при ионно-лучевом осаждении
4.4. Вывод
Выводы
Список используемой литературы
