Влияние емкостной составляющей на характеристики индуктивного ВЧ разряда низкого давления

Введение
Глава 1 Обзор литературы 23
1.1 Введение 23
1.2 Индуктивный ВЧ разряд без магнитного поля 25
1.2.1 Проникновение полей в плазму 25
1.2.2 Поглощение ВЧ мощности плазмой 29
1.3 Индуктивный ВЧ разряд, помещенный во внешнее магнитное поле, способствующее возбуждению геликонов и косых Ленгмюровских волн 34
1.4 Понятие эквивалентного сопротивления 41
1.5 Баланс мощности во внешней цепи индуктивного ВЧ разряда 45
Глава 2 Экспериментальные установки и методика измерений 48
2.1 Экспериментельные установки 48
2.2 Схемы источников плазмы 49
2.3 Способы организации разряда 50
2.4 Экспериментальная методика измерений величины ВЧ мощности, поглощенной плазмой 53
2.5 Диагностика плазма 57
Глава 3 Особенности индуктивного ВЧ разряда низкого давления, горящего в режиме Rpi3.1 Особенности индуктивного ВЧ разряда, наблюдаемые при изменении величины мощности ВЧ генератора 67
3.2 Особенности индуктивного ВЧ разряда, наблюдаемые при изменении величины магнитного поля 70
3.3 Динамика параметров плазмы и величины поглощенной ВЧ мощности при изменении внешнего магнитного поля 75
3.4 Влияние эффективного сопротивления антенны на свойства индуктивного ВЧ разряда 80
3.5 Результаты численного моделирования 81
Глава 4 Влияние емкостной составляющей на свойства индуктивного ВЧ разряда низкого давления 89
4.1 Зависимость параметров плазмы от мощности ВЧ генератора 89
4.2 Зависимость параметров плазмы от магнитного поля 97
4.3 Самосогласованная модель разряда с независимыми индуктивным и емкостным каналами 99
4.4 Результаты математического моделирования 103
Заключение 109
Список литературы 112