Введение
Глава 1. Оптические постоянные металлов и методы их измерения 7
1.1. Методы измерения оптических параметров (a, k, d) тонких пленок 7
1.1.1. Измерения при нормальном падении света 7
1.1.2. Фотометрические и интерферометрические измерения 13
1.1.3. Эллипсометрические измерения 14
1.1.3.1. Оптимальные условия элипсометрических измерений 20
1.1.3.2. Методы точного решения 21
1.1.3.3. Идеальная граница между полубесконечными средами 23
1.1.3.4. Однородный изотропный слой на изотропной подложке 24
1.1.3.5. Аналитическое решение обратной эллипсометрической задачи для однослойной системы 29
1.1.3.6. Приближенные методы решения. Тонкий проводящий слой 33
1.1.4. Методы, основанные на измерении разности фаз поляризованных компонент, возникающей при отражении 36
1.2. Оптические постоянные металлов 38
Глава 2. Методы контроля оптических постоянных тонких пленок в процессе осаждения 48
2.1. Методы описания многослойных оптических покрытий 48
2.2. Методы контроля оптических постоянных и толщины пленок во время осаждения слоя 5 8
2.2.1. Фотометрические методы контроля 60
2.2.2. Обработка фотометрического сигнала с использованием производной по толщине и оценка точности контроля 68
Глава 3. Измерение оптических постоянных тонких пленок в процессе осаждения и эксплуатации 77
3.1. Теоретические и методические основы проведения эллипсометрических измерений на ЛЭФ-ЗМ 77
3.2. Определение величины погрешности полученных экспериментальных результатов 80
3.3. Исследование фотометрических методов определения оптических постоянных тонких пленок 84
3.4. Контроль оптических параметров слоя во время осаждения пленки в вакууме 87
Выводы по главе 3 103
Заключение 104
Литература 105
Приложение
