Введение
Глава 1. Электрофизические свойства кремниевых структур с нетрадиционнами диэлектрическими слоями . 13
1 1. Структуры Si-Hkl. получение и электрофизические свойства. 15
1 1. 1. Введение. 15
1.1 .2. Способы получения структур Si-HkI-затвор . 17
1.1.3. Энергетическая диаграмма структур Si-Hkl. 19
1.1 .4. Строение и электрофизические свойства межфазовой границы кремний-НкІ. 23
1.1.5. Электрофизические объемные свойства пленок НЫ на кремнии. 26
1.2. Структуры SIMOX, Получение и электрофизические свойства. 28
1.3. Выводы к Главе 1. 32
Глава 2. Методика эксперимента. 33
2.1. Система электролит-диэлектрик-полупроводник и ее возможности для изучения процессов в структурах кремний-диэлектрик. 33
2.2. Методы исследования структур кремний-диэлектрик в системе электролит-диэлектрик-полупроводник . 39
2.2.1. Электрофизические методы исследования. 39
2.2.2. Статическая и динамическая деградация структур кремний-диэлектрик. 48
2.3. Определение энергетической диаграммы структур кремний-диэлектрик на основе метода полевых циклов в электролите. 50
2.4. Исследуемые образцы. 56
2.5. Выводы к Главе 2. 58
Глава 3. Электрофизические свойства структур Si- Si02) полученных по SIMOX-технологии . 59
3.1. Исходное зарядовое состояние SIMOX-структур. 59
3.2. Влияние БУФ-облучения на зарядовое состояние структур Si-Si02 66
3.3. Полевая стабильность структур Si-Si02, полученных по SIMOX технологии. 68
3.4. Роль маскирующего окисла в формировании зарядовых свойств SIMOX структур Si-Si02. 73
3.5. Энергетическое положение ЭАЦ, ответственных за положительный заряд в SIMOX структур Si-Si02. 74
3.6. Модель образования и природа ЭАЦ, ответственных за зарядовое состояния SIMOX-структур. 80
3.7. Выводы к Главе 3. 91
Глава 4. Электрофизические свойства структур кремний-диэлектрик с высокой диэлектрической проницаемостью (Zr02j НГО2, А1203). 94
4.1. Использование системы ЭДП для исследования структур Si-Hkl. 94
4.2. Исходные зарядовые характеристики структур Si-Hkl . 96
4.3. Влияние электрических полей на зарядовую стабильность структур Si-Hkl. 101
4.4. Влияние БУФ-облучения на зарядовую стабильность структур Si-Hkl. 106
4.5. Энергетические диаграммы структур Si-Hkl. 114
4.6. Электрически активные центры в структурах Si-Hkl. 116
4.7. Выводы к главе 4. 128
Глава 5. Динамические полевые воздействия на структуры кремний-диэлектрик . 132
5.1. Влияние динамического полевого воздействия на зарядовые свойства структур Si-Si02. 132
5.2. Влияние динамического полевого воздействия на зарядовые свойства структур Si-Hkl. 136
Выводы к главе 5. 139
Основные выводы 140
Цитируемая литература. 147
