Введение
Глава 1. Кинетика процессов энергетической релаксации в тонких пленках сверхпроводников и нормальных металлов 20
1.1. Механизмы энергетической релаксации в тонких металлических пленках 21
1.1.1. Электрон-электронное рассеяние 21
1.1.2. Электрон-фононное взаимодействие
1.2. Процессы релаксации в сверхпроводниковых пленках 30
1.3. Обзор экспериментальных работ по исследованию зависимости Te-ph(T) в тонких пленках 35
1.4. Выбор объекта исследования и постановка задачи исследования 38
Глава 2. Методики измерения свойств сверхпроводниковых пленок и технологии изготовления исследуемых образцов 40
2.1. Методики измерения основных характеристик сверхпроводни ковых пленок 41
2.1.1. Определение поверхностного сопротивления и удельного сопротивления пленок в нормальном состоянии 41
2.1.2. Исследование зависимости сопротивления пленок от температуры и определение плотности критического тока 42
2.1.3. Определение коэффициента электронной диффузии в сверхпроводниковых пленках 46
2.2. Метод определения времени энергетической релаксации электронов в сверхпроводниковых пленках 47
2.2.1. Выбор метода и обоснование
2.2.2. Общее описание метода определения времени энергетической релаксации и модели электронного разогрева в сверхпроводниковых пленках 53
2.2.3. Описание экспериментальной установки 59
2.3. Описание технологии изготовления образцов 66
2.3.1. Технология нанесения тонких сверхпроводниковых пленок нитрида титана 66
2.3.2. Сверхпроводниковые алмазные пленки, легированные атомами бора (С:В) 76
Глава 3. Исследование процессов энергетической релаксации электронов в сверхпроводниковых алмазных пленках, легированных бором 79
3.1. Экспериментальные результаты 80
3.2. Обсуждение экспериментальных результатов
3.2.1. Резистивное состояние сверхпроводниковой пленки 88
3.2.2. Режим I 92
3.2.3. Режим II 98
3.2.4. Режим III 102
3.3. Выводы к главе 103
Глава 4. Электрон-фононное взаимодействие в неупорядоченных пленках нитрида титана 107
4.1. Экспериментальные результаты 107
4.1.1. Исследование пленок TiN, осажденных методом магнетронного распыления 107
4.1.2. Исследование пленок TiN, изготовленных методом атомно-слоевого осаждения 108
4.2. Обсуждение экспериментальных результатов 114
4.3. Выводы к главе 119
Заключение 121
Список публикаций 123
Литература
