Введение
I. Математические модели полевой электронной эмиссии 8
1.1. Поверхность монокристалла металла 8
1.1.1. Общие положения 8
1.1.2. Геометрия и плотность упаковки плоских поверхностей 9
1.1.3. Моделирование геометрии неплоских поверхностей 14
1.2. Работа выхода 15
1.2.1 Определение понятия 15
1.2.2 Модель кристаллографической анизотропии работы выхода 18
1.3. Полевая электронная эмиссия 21
1.3.1. Теория полевой электронной эмиссии 21
1.3.2. Сопоставление теоретических и экспериментальных результатов 25
1.3.3. Аппроксимация формы эмиттера 29
1.3.4. Методы расчета потенциала и напряженности поля 30
1.4. Эмиссионные системы металл-диэлектрик 36
1.4.1. Формирование слоя диэлектрика 36
1.4.2. Изменения работы выхода монокристаллической поверхности 38
1.5. ВЫВОДЫ 46
II. Моделирование эмиссионных характеристик металлической поверхности 47
2.1. Постановка задачи 47
2.2. Модель геометрии поверхности 51
2.2.1. Алгоритм расчета структуры поверхности 52
2.2.2. Построение кристаллографических граней вершины эмиттера 63
2.3. Модель распределения работы выхода по поверхности 68
2.4 расчет эмиссионного тока 73
2.4.1. Распределение электрического поля 73
2.4.2. Плотность тока эмиссии и общий эмиссионный ток 79
2.5. Проверка адекватности модели на основе данных натурного Эксперимента 81
2.5.1. Вольтамперные характеристики 81
2.5.2. Эмиссионные изображения 83
2.5.3. Площадь эмиссии 86
2.6. Выводы 88
III. Математическое моделирование полевой электронной эмиссии из систем металл-диэлекрик 89
3.1 Модель зависимости эмиссионных характеристик системы от толщины слоя диэлектрика 89
3.1.1. Модель в случае монокристаллической поверхности 89
3.1.2. Усреднение параметров модели для поликристаллической поверхности эмиттера 92
3.2. Данные натурного моделирования 96
3.2.1. Выбор систем металл-диэлектрик для натурной проверки модели. 96
3.2.2. Особенности вольтамперных Модель предпочтительной ориентации диполей диэлектрического слоя 100
3.4. Выводы 107
Заключение 108
Литература характеристик систем металл-вода.. 97
3.3.
