Пленки Mg2Si, выращенные на Si(111) методом сверхбыстрой реактивной эпитаксии: структура, электрофизические свойства, контактные явления, фотоотклик

Пленки Mg2Si, выращенные на Si(111) методом сверхбыстрой реактивной эпитаксии: структура, электрофизические свойства, контактные явления, фотоотклик

Специальность 1.3.11 — физика полупроводников Диссертация на соискание учёной степени кандидата физико-математических наук

Автор
Чернев Игорь Михайлович
Год
2024
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации

Введение............................................................................................................................... 4
Глава 1. Обзор литературы ............................................................................................... 13
1.1 Современные фотоактивные полупроводниковые материалы ..................... 13
1.2 Потенциал силицидов как фоточувствительных материалов ....................... 14
1.3 Потенциал силицидов как термоэлектрических материалов........................ 19
1.4 Потенциал силицидов в роли электрических контактов ............................... 23
1.5 Выводы .............................................................................................................. 29
Глава 2. Аппаратура, методы исследования и проведения эксперимента .................... 30
2.1 Введение ............................................................................................................ 30
2.2 Методы исследования....................................................................................... 30
2.2.1 Атомно-силовая микроскопия ................................................................... 30
2.2.2 Оптическая спектроскопия........................................................................ 33
2.2.3 Инфракрасная Фурье-спектроскопия ....................................................... 36
2.2.4 Спектроскопия комбинационного рассеяния света................................. 37
2.2.5 Рентгеновский структурный анализ ......................................................... 40
2.2.6 Сканирующая электронная микроскопия................................................. 43
2.2.7 Просвечивающая микроскопия высокого разрешения............................ 45
2.2.8 Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия ..................................... 48
2.2.9 Измерение и расчёт электрофизических параметров.............................. 50
2.2.10 Измерение фотоотоклика, вольтамперных и вольтфарадных
характеристик.......................................................................................................... 54
2.3 Экспериментальные условия и методики подготовки образцов................... 55
2.3.1 Сверхвысоковакуумная камера Varian...................................................... 55
2.3.2 Импульсный источник для сверхбыстрого осаждения Mg..................... 56
3
2.3.3 Подготовка СВВ камеры и источников Mg к ростовым процедурам .... 57
2.3.4 Методика подготовки кремниевых подложек .......................................... 58
2.3.5 Калибровка импульсного источника Mg .................................................. 59
2.4 Выводы .............................................................................................................. 61
Глава 3. Формирование и свойства плёнок Mg2Si на кремниевых подложках,
выращенных методом сверхбыстрого реактивного осаждения магния........................ 62
3.1 Введение ............................................................................................................ 62
3.2 Синтез тонких пленок Mg2Si на Si(111) методом сверхбыстрого
реактивного осаждения магния ............................................................................... 62
3.3 Синтез и кристаллическая структура плёнок Mg2Si толщиной ~0.8 мкм
выращенных методом сверхбыстрого реактивного осаждения Mg на Si(111).... 66
3.4 Анализ химического состава ........................................................................... 84
3.5 Транспортные свойства.................................................................................... 91
3.6 Выводы ............................................................................................................ 102
Глава 4. Формирование структура и свойства систем FeSi/Mg2Si/Si, CrSi2/ Mg2Si/Si и
Au/Mg2Si/Si ...................................................................................................................... 103
4.1 Введение .......................................................................................................... 103
4.2 Тонкие пленки систем Fe-Si и Cr-Si на Si(111) и на Mg2Si/Si(111). Синтез,
структура и оптические свойства. ......................................................................... 103
4.3 Вольтамперные характеристики систем FeSi/Mg2Si/Si(111),
CrSi2/Mg2Si/Si(111) и Me/Mg2Si/Si(111) ................................................................ 115
4.4 Фотодетектирующие свойства систем Me/Mg2Si/Si(111), FeSi/Mg2Si/Si(111)
и CrSi2/Mg2Si/Si(111)............................................................................................... 126
4.5 Выводы ............................................................................................................ 138
Общие выводы................................................................................................................. 140
Список сокращений......................................................................................................... 142
Список литературы.......................................................................................................... 143

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Филатова Ольга Георгиевна
Количество страниц
365
Год
2024
99 000 UZS
Автор
Андреева Дарья Владимировна
Количество страниц
134
Год
2024
99 000 UZS
Автор
Дубинова Ольга Богдановна
Количество страниц
158
Год
2024
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3