Введение
ГЛАВА 1. Наноразмерное профилирование методом фокусированных ионных пучков при формировании элементов микро- и наносистемной техники 15
1.1. Методы наноразмерного профилирования в технологии изготовления элементов микро- и наносистемной техники 15
1.2. Наноразмерное профилирование методом фокусированных ионных пучков при создании элементов микро- и наносистемной техники 21
1.3. Теоретические основы наноразмерного профилирования методом фокусированных ионных пучков 29
1.4. Выводы и постановка задачи 40
ГЛАВА 2. Моделирование процессов наноразмерного профилирования поверхности подложек методом фокусированных ионных пучков 43
2.1. Исследования разупорядоченного слоя приповерхностной области подложек при воздействии ионов 43
2.2. Математическая модель формирования рельефа поверхности подложек при травлении фокусированным ионным пучком 47
2.3. Выводы 67
ГЛАВА 3. Исследование режимов ионно-лучевого травления методом фокусированных ионных пучков 68
3.1. Исследование влияния режимов ионно-лучевого травления на геометрические параметры формируемых структур 68
3.2. Исследование влияния режимов ионно-лучевого травления и сканирования на отклонение профиля формируемых структур 76
3.2.1. Исследование влияния режимов ионно-лучевого травления на отклонение профиля формируемых структур от заданного
3.2.2. Исследование влияния режимов сканирования ионного пучка на отклонение профиля 78
3.3. Исследования влияния режимов ионно-лучевого травления на точность переноса топологического рисунка шаблона 83
3.4. Исследования влияния режимов ионно-лучевого травления на шероховатость поверхности структуры 87
3.5. Выводы 91
ГЛАВА 4. Формирование чувствительных элементов макетов туннельно-эмиссионных наномеханических акселерометров методом фокусированных ионных пучков 93
4.1 Разработка способа и комплекса программного обеспечения для генерации растровых шаблонов для безмасочного структурирования поверхности подложек методом фокусированных ионных пучков 93
4.2. Исследование разработанного комплекса программного обеспечения 105
4.3. Формирование чувствительных элементов макета туннельно-эмиссионного наномеханического акселерометра методом фокусированных ионных пучков 110
4.3.1. Разработка комплекта шаблонов и определение технологических параметров формирования чувствительных элементов туннельно эмиссионных наномеханических акселерометров методом
фокусированных ионных пучков 112
4.4. Разработка технологического маршрута изготовления чувствительных элементов туннельно-эмиссионного наномеханического акселерометра методом фокусированных ионных пучков 117
4.5. Исследование чувствительного элемента макета туннельно-эмиссионного акселерометра 120
4.6. Выводы 123
Заключение 125
Список сокращений 127
Список используемых источников
