Введение
Глава I. Особенности обработки полупроводниковых пластин бинарных ~ A IIIT соединении А В в соответствии с современными требованиями . (Литературный обзор)
1.1 Введение
1.2Требования к качеству полупроводниковых пластин бинарных соединений АШВУ <...
1.3 Физико-химические свойства полупроводниковых соединений АШВУ и их влияние на процессы обработки подложек
1.4 Основные этапы обработки полупроводниковых материалов. ^
1.5 Выводы и постановка задачи Z...
Глава П.. Методы исследования и визуализации приповерхностных нарушений, возникающих в пластинах соединений АШВУ в процессе механической и химико-механической обработки
II. 1 Разработка методики косого шлифа для определения глубины нарушенного слоя в пластинах арсенида галлия, фосфида галлия и фосфида индия :
П.2 Определение глубины нарушенного слоя методом послойного удаления материала ...
II.3 Оценка качества поверхности полупроводниковых пластин арсенида галлия, фосфида галлия и фосфида индия после проведения процесса химико-механического полирования...<г*-
П.4 Материалы, исследуемые в работе 9.7
Глава III. Разработка технологии двухстороннего шлифования свободным абразивом пластин арсенида галлия, фосфида галлия, фосфида индия большого диаметра
III. 1. Сравнительный анализ качества поверхности и геометрических параметров пластин, полученных методами резки алмазным кругом с внутренней режущей кромкой и многопроволочной резки 9.7
Ш.2 Прогнозирование глубины приповерхностных нарушений при механической обработке пластин фосфида галлия, арсенида галлия и фосфида галлия
Ш.З..Исследование глубины повреждений в приповерхностных слоях пластин при проведении процесса шлифования в зависимости от размера абразивных частиц Y.7.
III. 4 Влияние удельного давления, скорости подачи суспензии и механических свойств материала на качество проведения процесса шлифования пластин арсенида галлия, фосфида галлия и фосфида индия <Р.Ч
Ш.4 Выводы по главе III ?/$
Глава 4 Разработка технологии прецизионного химико-механического полирования пластин фосфида галлия, арсенида галлия и фосфида индия 7.:3
IV. 1. Исследование качества поверхности пластин фосфида галлия и арсенида галлия после проведения процесса одностороннего химико-механического полирования ?/.$
Ш.2. Исследование возможности снижения параметра разнотолщинности в полированных пластинах арсенида и фосфида галлия диаметром 76 мм Zfx/
IV.3 Выбор компонентов полирующей суспензии для химико- механического полирования пластин фосфида индия
IV.4 Выводы по главе IV
Выводы <.f.r
Литература
