Разработка и исследование процессов формирования фоторезистивных пленок на подложках некруглой формы

Мьо Хейн Зо. Разработка и исследование процессов формирования фоторезистивных пленок на подложках некруглой формы : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.06 / Мьо Хейн Зо; [Место защиты: Моск. гос. ин-т электронной техники].- Москва, 2008.- 169 с.: ил. РГБ ОД, 61 08-5/1173
Автор
Мьо Хейн Зо
Год
2008

  • 99 000 UZS

Рекомендуем вам товары

Исследование процессов локально-селективной обработки материалов и элементов электронной техники наноразмерным ионным пучком
99 000 UZS
Автор
Савенко Алексей Юрьевич
Количество страниц
Год
2008
Разработка способа выращивания профильных монокристаллов кремния из расплава методом Чохральского
99 000 UZS
Автор
Силаев Иван Вадимович
Количество страниц
Год
2008
Разработка технологических приемов получения фоточувствительных пленок на основе твердых растворов CdS1-xSex методом трафаретной печати
99 000 UZS
Автор
Стратейчук Диана Михайловна
Количество страниц
Год
2008
Исследование и разработка технических норм и методик для проектирования и эксплуатации пассиковых агрегатов межоперационных транспортных систем микроэлектроники
99 000 UZS
Автор
Аккулов Руслан Иршатович
Количество страниц
Год
2007
Синтез и исследование лазерных кристаллов Mg2SiO4:Cr с контролируемым валентным состоянием и структурной локализацией ионов хрома
99 000 UZS
Автор
Гайстер Александр Владимирович
Количество страниц
Год
2007
Новостной блок
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3