Введение
Глава 1. Обзор основных методов литографии, методов создания Т-образных затворов и принципов работы СВЧ транзисторов 9
1.1 Основные методы литографии в микро и наноэлектронике 9
1.1.1 Фотолитография на основе DUV и EUV источников излучения 9
1.1.2 Литография, основанная на заряженных пучках частиц 16
1.1.3 Наноимпринт литография 25
1.2 Принципы работы СВЧ транзисторов с высокой подвижностью носителей заряда. Методы формирования Т-образных затворов с использованием технологий нанолитографии 33
1.2.1. Принципы работы и конструкция СВЧ транзисторов 33
1.2.2 Методы формирования Т-образных затворов транзисторов 37
1.4 Выводы по главе 1 41
Глава 2. Исследование технологии наноимпринт литографии 43
2.1 Особенности вязкоупругого течения полимеров 43
2.1.1. Теоретические основы вязкоупругого поведения полимеров при сжатии 43
2.1.2. Исследование процесса формирования микрометровых элементов и наноразмерных периодических структур в технологии наноимпринт литографии 47
2.2 Исследование и оптимизация параметров нанесения антиадгезионных слоев в наноимпринт литографии 53
2.3 Выводы по главе 2 61
Глава 3. Формирование СВЧ транзисторов с Т-образным затвором методом наноимпринт литографии и исследование их электрофизических характеристик 62
3.1. Формирование штампа для наноимпринт литографии 62
3.2 Технология формирования СВЧ транзисторов с Т-образным затвором методом наноимпринт литографии 65
3.2.1. Гетероструктуры для СВЧ транзисторов 66
3.2.2. Формирование наноразмерных областей Т-образных затворов методом наноимпринт литографии 68
3.2.3. Плазмохимическое травление элементов Т-образных затворов в слое нитрида кремния 70
3.2.4. Формирование омических контактов 73
3.2.5. Изоляция активных областей транзисторов 76
3.2.6. Формирование Т-образного затвора транзистора 78
3.2.7. Формирование металлизации 1-го уровня разводки 80
3.3 Исследование DC- и RF-параметров сформированных СВЧ транзисторов 82
Выводы по главе 3 92
Глава 4. Формирование и исследование встречно-штыревых и островковых наноструктур, созданных с применением наноимпринт литографии 94
4.1. Встречно-штыревые структуры, формируемые методом наноимпринт литографии на пьезоэлектрических подложках 94
4.2. Формирование каталитических островковых структур для роста вертикально ориентированных углеродных нанотрубок 101
Выводы по главе 4 110
Заключение 111
Список использованных источников
