Введение
1. Современное состояние исследований характеристик полупроводниковых структур на сверхвысоких частотах 15
1.1. Волноводные методы измерения электрофизических параметров полупроводников 15
1.2. Мостовые методы измерения параметров полупроводников 27
1.3. Резонаторные методы измерения параметров полупроводников 31
1.4. Измерение параметров материалов методом волноводно-диэлектрического резонанса 40
1.5. Автодинные методы измерений параметров материалов и структур 43
1.6. Измерения параметров материалов с использованием синхронизированных генераторов 44
2. Теоретическое обоснование методики измерения характеристик слоистых структур металл-полупроводник, диэлектрик-металл-полупроводник по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 47
2.1. Теоретическое обоснование волноводного метода измерения характеристик слоистых структур по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 47
2.2. Измерение толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводника в слоистых структурах по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 49
2.2.1. Измерение толщины нанометрового металлического слоя, нанесённого на полупроводниковую подложку 49
2.2.2. Измерение толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводника в слоистых структурах 52
3. Результаты компьютерного моделирования процедуры измерений параметров тонких металлических, полупроводниковых и диэлектрических слоев в многослойных структурах по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 57
3.1. Компьютерное моделирование спектров отражения и прохождения электромагнитного излучения в структурах металл-полупроводник 58
3.2. Компьютерное моделирование процедуры измерений толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводника в слоистых структурах по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 60
3.2.1. Компьютерное моделирование спектров отражения и прохождения электромагнитного излучения в структурах диэлектрик-металл-полупроводник и диэлектрик-полупроводник-металл 60
3.2.2. Компьютерное моделирование процедуры измерений диэлектрической проницаемости и электропроводности полупроводниковых пластин с использованием спектров отражения электромагнитного излучения 63
3.2.3. Компьютерное моделирование процедуры измерений толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводниковых подложек с использованием спектров отражения электромагнитного излучения 67
3.2.4. Особенности отражения электромагнитного излучения от многослойной структуры с нанометровым металлическим слоем, нанесённым на подложку 70
4. Результаты измерений толщины и электропроводности нанометровых металлических пленок и полупроводниковых слоев в слоистых структурах по спектрам отражения и прохождения электромагнитного излучения 81
4.1. Экспериментальное определение диэлектрической проницаемости и электропроводности полупроводниковых пластин с использованием спектров отражения электромагнитного излучения 81
4.2. Экспериментальное определение толщины нанометрового металлического слоя, нанесённого на полупроводниковую подложку, по спектрам прохождения электромагнитного излучения 84
4.3. Экспериментальное определение толщины нанометровых металлических пленок и электропроводности полупроводника в слоистых структурах 85
4.4. Определение электропроводности нанометрового металлического слоя по спектру отражения электромагнитной волны 88
4.5. Использование методов радиоволновой интерферометрии для контроля параметров движения тела человека 93
Заключение 98
Библиографический список 100
