Введение
Глава 1. Литературный обзор 11
1.1. Роль процесса активации диэлектрической поверхности при формировании металлических структур из растворов для ЛОМР 11
1.2. Механизмы активации диэлектрических поверхностей
1.2.1. Активация путем воздействия на подложку лазерным излучением 13
1.2.2. Механическая активация поверхности диэлектрика 19
1.2.3. Химическая активация поверхности методом предосаждения металлического катализатора 20
1.3. Влияние поверхностных дефектов 23
1.3.1. Модель жестких зон 25
1.3.2. Поверхностные центры в гетерогенном катализе
1.4. Влияние компонентного состава раствора на формирование металлических структур на поверхности диэлектрика 27
1.5. Механизмы образования кристаллических фаз в процессе для ЛОМР 31
1.6. Теория объемной и поверхностной кристаллизации 32
1.7. Описание процессов и реакций, происходящих в зонах высоких и средних температур 37
Глава 2. Методы экспериментальных исследований 42
2.1. Схема экспериментальной установки для лазерного осаждения 42
2.2. Проведение эксперимента методом лазерно-индуцированного осаждения металла из раствора 44
2.3. Оптическая микроскопия 44
2.4. Электронная микроскопия и элементный анализ 45
2.5. Профили (атомно-силовая микроскопия) 45
2.6. Импедансная спектроскопия 45
2.7. Рентгенофазовый анализ 46
2.8. Методики приготовления составов растворов и подготовки диэлектрических поверхностей 46
2.9. Используемые диэлектрические подложки и их свойства 51
2.10. Составы используемых водных растворов 51
Глава 3. Результаты экспериментальных исследований 53
3.1. Некоторые необходимые пояснения 53
3.2. Картина термических зон осаждения 53
3.3. Экспериментальная проверка модели температурных зон
3.3.1. Изучение процессов осаждения в высокотемпературной зоне 64
3.3.2. Изучение процессов осаждения в зоне средних температур 71
3.3.3. Изучение возможности проведения реакции лазерно-индуцированного осаждения меди в гелеобразных средах з
3.4. Процессы в низкотемпературной зоне 82
3.4.1. Изучение влияния материала подложки на результаты процесса ЛОМР в различных восстановителях 83
Диэлектрическая поверхность стекла на основе диоксида кремния 83
Поверхность поликристаллического оксида алюминия (Поликор ВК-100) 94
Стеклокерамическая поверхность (Ситалл СТ-50-1) 98
3.4.2. Влияние традиционных способов активации диэлектрической поверхности на процесс ЛОМР 112
Исследование механической активации 115
Исследование химической активации и сенсибилизации 116
Химическая активация (AgNOs) 117
3.5. Влияние неоднородностей фазового состава на результат лазерно-индуцированного
осаждения меди 118
3.6. Пример более сложных композитных подложек 141
Глава 4. Общие закономерности изменения топологии и электрических свойств медных структур в зависимости от свойств используемых диэлектрических поверхностей 150
Выводы 159
Список литературы
